一種防止硅片放偏的自動(dòng)探測(cè)控制系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023072836.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214311426U 公開（公告）日 2021-09-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN214311426U 申請(qǐng)公布日 2021-09-28
分類號(hào) G05B19/414（2006.01）I;H01L21/66（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 控制；調(diào)節(jié);
發(fā)明人 李慎重;童科峰;田達(dá)晰;蔣玉龍;王震;袁東寧 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 浙江金瑞泓科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海泰能知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 王亮;宋纓
地址 315800浙江省寧波市保稅東區(qū)0125-3地塊
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種防止硅片放偏的自動(dòng)探測(cè)控制系統(tǒng)，包括外延機(jī)臺(tái)，外延機(jī)臺(tái)上設(shè)置有旋轉(zhuǎn)基座，旋轉(zhuǎn)基座上繞著中心呈環(huán)形陣列布置有若干個(gè)用于放置硅片的基座槽，旋轉(zhuǎn)基座的上方靠近基座槽中心的位置設(shè)置有第二測(cè)距傳感器，第二測(cè)距傳感器的一側(cè)靠近基座槽邊緣的位置設(shè)置有第一測(cè)距傳感器，第二測(cè)距傳感器和第一測(cè)距傳感器均與PLC控制器電性相連，PLC控制器與控制外延機(jī)臺(tái)的EAP控制執(zhí)行操作系統(tǒng)相連。本實(shí)用新型增加硅片裝入槽內(nèi)的自動(dòng)探測(cè)和識(shí)別系統(tǒng)，使用PLC采集和輸出數(shù)據(jù)，利用EAP自動(dòng)控制平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)硅片位置偏離檢測(cè)技術(shù)監(jiān)控和實(shí)時(shí)反饋，有效防止異常外延片的產(chǎn)生，確保外延片質(zhì)量穩(wěn)定可靠。