半導(dǎo)體器件與集成電路硅單晶廢棄片的回收利用方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200610049528.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN100490185C | 公開(公告)日 | 2009-05-20 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN100490185C | 申請(qǐng)公布日 | 2009-05-20 |
| 分類號(hào) | H01L31/04(2006.01)I;B09B3/00(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 劉培東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 浙江東源電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 張法高 |
| 地址 | 310013浙江省杭州市玉古路147號(hào)浙江大學(xué)求是村黃鴻年科技綜合樓720室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體器件與集成電路硅單晶廢棄片的回收利用方法。它是將半導(dǎo)體器件和半導(dǎo)體集成電路廢棄硅片用HCl、H2SO4去除鎂、鋁、錳、鋅、鉻、鐵、鎳、錫、鉛比氫活潑的金屬,用HNO3去除銅、汞、銀過渡金屬,用濃HCl和濃HNO3的混合酸溶解并回收金和鉑,用濃HF和濃HNO3的混合酸去除金屬硅化物、硅氧化物、硅氮化物,再用單面減薄、雙面研磨減薄的方法以去除器件工藝中的有源區(qū),得到原有電阻率的硅片,再經(jīng)過拋光、清洗、分類、檢測(cè)、分檔,生產(chǎn)出硅單晶拋光片。本發(fā)明有效利用了半導(dǎo)體器件和半導(dǎo)體集成電路的廢棄硅片,有利于資源的循環(huán)利用和降低半導(dǎo)體器件和半導(dǎo)體集成電路生產(chǎn)成本。 |





