重摻硅中磷、砷、銻、硼的去除方法及其裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN200810059805.8 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN101306817A | 公開(公告)日 | 2008-11-19 |
| 申請公布號 | CN101306817A | 申請公布日 | 2008-11-19 |
| 分類號 | C01B33/037(2006.01) | 分類 | 無機化學; |
| 發(fā)明人 | 劉培東 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江東源電子有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 張法高 |
| 地址 | 310012浙江省杭州市西湖區(qū)山水人家美林泉1棟3單元201室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種重摻硅中磷、砷、銻、硼的去除方法及其裝置,它是將半導體工業(yè)中廢棄的重摻硅的堝底料、頭尾料、邊角料、破碎片,在高溫下加熱熔化,通過在硅熔體中通惰性氣體He、Ne、Ar,用吹氣鼓泡促進蒸發(fā)的方法,降低硅中摻雜劑的磷、砷、銻、硼的濃度,以達到將半導體重摻硅用于太陽能硅的原料。本發(fā)明通過在普通的直拉硅單晶爐上附加一個吹氣鼓泡裝置和取樣勺,采用控制蒸發(fā)溫度和吹氣鼓泡時間,可實現(xiàn)對硅中雜質(zhì)的有效控制和隨時檢測,當N型雜質(zhì)總濃度小于5×1016atms/cm3,或P型雜質(zhì)總濃度小于1×1017atms/cm3,對應(yīng)電阻率大于0.1Ω.cm時,半導體重摻硅的廢棄料,可用于拉制太陽能硅單晶的原料。本發(fā)明簡單易行,操作方便,可實現(xiàn)廢棄硅的循環(huán)利用。 |





