負(fù)載納米薄膜改善燒結(jié)NdFeB晶界擴(kuò)散的方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010097766.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN112750611A | 公開(公告)日 | 2021-05-04 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112750611A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-04 |
| 分類號(hào) | H01F41/02;H01F1/057 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 郭芳;梁紅艷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 京磁材料科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京遠(yuǎn)大卓悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 卞靜靜 |
| 地址 | 101300 北京市順義區(qū)林河南大街9號(hào)院1號(hào)樓1至11層01內(nèi)3層312室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種負(fù)載納米薄膜改善燒結(jié)NdFeB晶界擴(kuò)散的方法,包括:1)制備燒結(jié)釹鐵硼的黑片;2)采用磁控濺射方法對(duì)燒結(jié)釹鐵硼黑片進(jìn)行負(fù)載TiO2納米晶體薄膜的制備:采用陶瓷TiO2靶,本底真空度低于3.5×10?4Pa時(shí)開始濺射,氬氣作為濺射氣體,濺射過程中進(jìn)行冷卻;3)將負(fù)載TiO2納米晶體薄膜的燒結(jié)釹鐵硼黑片浸入含有鋱和/或鏑的懸濁液中采用涂覆法進(jìn)行晶界擴(kuò)散;4)晶界擴(kuò)散完成后,進(jìn)行熱處理,熱處理結(jié)束后,冷卻到室溫完成滲透過程。本發(fā)明將具有吸附特性的納米材料與涂覆工藝耦合起來,增強(qiáng)了涂層的結(jié)合力,改善了涂層易脫落,涂層不均勻等缺點(diǎn)。 |





