一種結(jié)構(gòu)光測(cè)量系統(tǒng)高精度校準(zhǔn)方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010534367.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111649696B 公開（公告）日 2021-07-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN111649696B 申請(qǐng)公布日 2021-07-06
分類號(hào) G01B11/25 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 溫捷文 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 珠海博明傳感器技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京華際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 鄧大文
地址 519000 廣東省珠海市高新區(qū)唐家灣鎮(zhèn)軟件園街（路）1號(hào)生產(chǎn)加工中心5#一層8單元B區(qū)04-06室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種結(jié)構(gòu)光測(cè)量系統(tǒng)高精度校準(zhǔn)方法，本方法通過(guò)投影裝置向被測(cè)量物體表面發(fā)出投射光，所述投射光通過(guò)光柵條紋投射到被測(cè)量物體上，通過(guò)線性亮度平衡方法在投影裝置發(fā)出透射光之前對(duì)投射光進(jìn)行線性亮度平衡；圖像采集裝置采集被測(cè)量物體表面的投射光，形成投射光圖像，在形成投射光圖像時(shí)，對(duì)投射光產(chǎn)生的正弦條紋進(jìn)行補(bǔ)償，形成理想正弦條紋；對(duì)投射光圖像進(jìn)行解調(diào)得到被測(cè)量物體的三維信息，使用擬合平面替代原基底相位的方法用擬合平面替代原基底平面，實(shí)現(xiàn)高精度成像，周期對(duì)投影過(guò)程中產(chǎn)生的投影條紋均勻性不好、條紋存在初次噪聲和基底相位不平問(wèn)題進(jìn)行解決，該方法有效地提高了結(jié)構(gòu)光檢測(cè)精度。