硬掩膜組合物和硬掩膜及形成圖案的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010087862.8 申請日 -
公開（公告）號 CN111240153A 公開（公告）日 2020-06-05
申請公布號 CN111240153A 申請公布日 2020-06-05
分類號 G03F7/004(2006.01)I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 王靜;肖楠;宋里千 申請（專利權）人 廈門恒坤新材料科技股份有限公司
代理機構 廈門市精誠新創(chuàng)知識產權代理有限公司 代理人 廈門恒坤新材料科技股份有限公司
地址 361000福建省廈門市海滄區(qū)東孚鎮(zhèn)山邊路389號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于光刻領域，公開了一種硬掩膜組合物和硬掩膜及形成圖案的方法。所述硬掩膜組合物含有聚合物以及溶劑，所述聚合物具有化學式1所示的結構，其中，R1和R2各自獨立地表示被至少一個氧原子間隔開的碳原子數為2～15的取代或非取代烷基或含有羰基的基團；R3表示碳原子數為1～5的取代或非取代烷基或者碳原子數為6～50的直鏈或支鏈芳基；n為1～500的整數。本發(fā)明提供的硬掩膜組合物具有優(yōu)異的溶劑溶解性、空隙填充特性和平坦化特性，由其形成的硬掩膜具有良好的耐刻蝕性。??