一種基于分布式相位補(bǔ)償技術(shù)的半導(dǎo)體激光器

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111132502.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113991423A 公開（公告）日 2022-01-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN113991423A 申請(qǐng)公布日 2022-01-28
分類號(hào) H01S5/12（2021.01）I;H01S5/042（2006.01）I;H01S5/028（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 呂根;周亞亭;肖如磊;樊榮虎;陳向飛 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 南京華飛光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京鐘山專利代理有限公司 代理人 戴朝榮
地址 211135江蘇省南京市江寧區(qū)麒麟科技創(chuàng)新園智匯路300號(hào)B座2層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種基于分布式相位補(bǔ)償技術(shù)的半導(dǎo)體激光器，涉及光纖通信和光子集成領(lǐng)域。該半導(dǎo)體激光器包括金屬n電極、緩沖層、下分別限制層、發(fā)光有源層、上分別限制層、腐蝕阻擋層、光柵層、波導(dǎo)層、過渡層、p型歐姆接觸層、金屬p電極、高反射膜、抗反射膜。本發(fā)明半導(dǎo)體激光器的兩端分別設(shè)有高反射膜和抗反射膜，以提高半導(dǎo)體激光器的能量利用率和輸出功率；通過刻蝕波導(dǎo)形成電隔離，將半導(dǎo)體激光器分成兩段或多段，通過改變每一段的電流注入分配，使得高反射鍍膜帶來的隨機(jī)反射相位能夠被有效地補(bǔ)償，解決了隨機(jī)反射相位造成的激射模式不穩(wěn)定的問題，同時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)波長(zhǎng)的微小調(diào)控。