一種半導體片材的表面缺陷及厚度檢測裝置及方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110736291.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113188610B | 公開(公告)日 | 2021-09-24 |
| 申請公布號 | CN113188610B | 申請公布日 | 2021-09-24 |
| 分類號 | G01D21/02;B01D46/30 | 分類 | 測量;測試; |
| 發(fā)明人 | 閆長春 | 申請(專利權)人 | 蘇師大半導體材料與設備研究院(邳州)有限公司 |
| 代理機構 | 北京棘龍知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 張開 |
| 地址 | 212000 江蘇省徐州市邳州市邳州經(jīng)濟開發(fā)區(qū)遼河西路88號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種半導體片材的表面缺陷及厚度檢測裝置,包括檢測底座、集塵機構、風墻機構、收風機構和增效機構,檢測底座內(nèi)設有集塵機構,集塵機構包括支撐底托,支撐底托內(nèi)設有第一集塵箱,支撐底托內(nèi)設有風墻機構,風墻機構包括第一鼓風機,檢測底座和支撐底托上均連接有導向夾。本發(fā)明通過半導體片材表面缺陷及厚度檢測裝置上相應機構的設置,有效的減少了檢測范圍內(nèi)的灰塵以及雜質(zhì),不僅提升了發(fā)射光的抵達率,還提升了反射光的接收率,降低了灰塵以及雜質(zhì)對于半導體片材表面缺陷及厚度檢測裝置的影響,同步減少了對半導體片材后續(xù)的制備及其應用時性能發(fā)揮的影響,降低了廠家的損失。 |





