一種采用磁流體密封處理的用于真空鍍膜的敲擊裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110297842.8 申請日 -
公開（公告）號 CN113073296A 公開（公告）日 2021-07-06
申請公布號 CN113073296A 申請公布日 2021-07-06
分類號 C23C14/34（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張心鳳;夏正衛(wèi);劉洋;陳玉梅;范洪躍 申請（專利權(quán)）人 安徽純源鍍膜科技有限公司
代理機構(gòu) 合肥九道和專利代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 胡發(fā)丁
地址 230088安徽省合肥市高新區(qū)永和路99號一天電氣F廠房101-A區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種采用磁流體密封處理的用于真空鍍膜的敲擊裝置，包括敲擊桿，敲擊桿的一端裝配有敲擊碳頭，敲擊桿的另一端裝配在轉(zhuǎn)動桿的一端，敲擊桿和轉(zhuǎn)動桿呈夾角狀布置，轉(zhuǎn)動桿轉(zhuǎn)動安裝，轉(zhuǎn)動桿上設置有磁流體組件，轉(zhuǎn)動桿與調(diào)節(jié)其進行轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動調(diào)節(jié)組件相連接。上述方案中，將敲擊裝置的傳統(tǒng)油封結(jié)構(gòu)更換為磁流體密封結(jié)構(gòu)，可以解決敲擊桿部位漏氣的問題。