多層結(jié)構(gòu)屏幕的異物缺陷區(qū)分方法、電子設(shè)備及存儲介質(zhì)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111047559.6 申請日 -
公開（公告）號 CN113484333B 公開（公告）日 2021-12-14
申請公布號 CN113484333B 申請公布日 2021-12-14
分類號 G01N21/95（2006.01）I;G01N21/94（2006.01）I;G06T7/00（2017.01）I;G06T7/13（2017.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請（專利權(quán)）人 蘇州高視半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 惠州市超越知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 陳文福
地址 215163江蘇省蘇州市高新區(qū)嘉陵江路198號11幢9層903室、904室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請是關(guān)于一種多層結(jié)構(gòu)屏幕的異物缺陷區(qū)分方法。該方法包括：將待測的多層結(jié)構(gòu)屏幕的顯示畫面切換為白色畫面；在M個方向的表面光源的切換照射下對多層結(jié)構(gòu)屏幕進行拍攝，使得待測缺陷在白色畫面中產(chǎn)生陰影，得到M個目標(biāo)檢測圖像；分別根據(jù)M個目標(biāo)檢測圖像獲取待測缺陷的缺陷主體輪廓以及缺陷陰影輪廓；根據(jù)缺陷主體輪廓確定第一灰度直方圖，并根據(jù)缺陷陰影輪廓確定第二灰度直方圖；根據(jù)第一灰度直方圖以及第二灰度直方圖確定缺陷主體輪廓與缺陷陰影輪廓之間的推土距離EMD；將EMD與預(yù)設(shè)閾值對比，根據(jù)對比結(jié)果確定待測缺陷的缺陷類型。本申請?zhí)峁┑姆桨?，能夠?zhǔn)確區(qū)分待測缺陷的缺陷類型，降低多層結(jié)構(gòu)屏幕的異物缺陷誤判率。