一種適用半導體領域的光刻膠剝離液及制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011496711.4 申請日 -
公開（公告）號 CN112711176A 公開（公告）日 2021-04-27
申請公布號 CN112711176A 申請公布日 2021-04-27
分類號 G03F7/42 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 尹淞;馮繼恒;魯晨泓;張建;劉江華 申請（專利權）人 芯越微電子材料（嘉興）有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 314200 浙江省嘉興市平湖市鐘埭街道新明路901號3號樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種適用半導體領域的光刻膠剝離液及制備方法，包括季銨化合物、有機醇胺、極性有機溶劑以及去離子水；以重量百分比計，包括季銨化合物0.5?20％、有機醇胺1?40％、極性有機溶劑20?95％、去離子水1?50％。本發(fā)明穩(wěn)定性好、去膠效果好，不會對砷化鎵等基底產生腐蝕。