曝光機(jī)臺(tái)電子槍加熱系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921338761.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN211858576U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-11-03 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211858576U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-11-03 |
| 分類號(hào) | H01J37/317(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 周凱 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 無(wú)錫迪思微電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 無(wú)錫市朗高知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 無(wú)錫迪思微電子有限公司 |
| 地址 | 214000江蘇省無(wú)錫市太湖國(guó)際科技園菱湖大道180號(hào)-6 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供曝光機(jī)臺(tái)電子槍加熱系統(tǒng)，包括：離子泵、分子泵、加熱帶，分子泵一端通過(guò)管道接真空室、另一端接機(jī)械泵，離子泵通過(guò)管道接入真空室，加熱帶纏繞在離子泵外部，高溫情況下，氣體分子運(yùn)動(dòng)加速，氣體分子與活性膜的反應(yīng)也會(huì)加快，提高了分子泵抽取離子泵內(nèi)氣體的速度，操作方便、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單。?? |
