一種熱處理裝置及顯影機
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202022053349.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN213876315U | 公開(公告)日 | 2021-08-03 |
| 申請公布號 | CN213876315U | 申請公布日 | 2021-08-03 |
| 分類號 | G03F7/30(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 金浩天 | 申請(專利權(quán))人 | 上海眾鴻電子科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 上海碩力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 王法男 |
| 地址 | 200135上海市浦東新區(qū)中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)張江路75號10幢505室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種熱處理裝置及顯影機。該熱處理裝置包括:用于噴涂顯影液的噴嘴,所述噴嘴上設(shè)有噴嘴溫控部,所述噴嘴溫控部用于控制噴嘴的溫度;電機,所述電機上設(shè)有電機溫控部,所述電機溫控部用于控制電機的溫度;溫度控制器,所述溫度控制器、所述噴嘴溫控部及所述電機溫控部經(jīng)管路串接形成循環(huán)回路,所述溫度控制器用于控制所述循環(huán)回路中循環(huán)液的溫度。熱處理裝置及顯影機保證了顯影液噴嘴部位與電機部位的溫度保持一致,避免因顯影液噴嘴部位與電機部位的溫度不同而導(dǎo)致晶圓顯影時均勻性出現(xiàn)偏差。 |





