納米多層復(fù)合涂層及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111400075.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113817985A 公開(kāi)（公告）日 2021-12-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN113817985A 申請(qǐng)公布日 2021-12-21
分類號(hào) C23C14/06（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 譚志 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 武漢中維創(chuàng)發(fā)工業(yè)研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 黎金娣
地址 430000湖北省武漢市東湖新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)關(guān)山大道473號(hào)光谷新發(fā)展國(guó)際中心寫字樓B座第5、6層05-108室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種納米多層復(fù)合涂層及其制備方法和應(yīng)用。該納米多層復(fù)合涂層包括交替層疊設(shè)置的Cr?B?N層（化學(xué)組成為CrmBnN1?m?n）和Ti?Al?B?N層（化學(xué)組成為TixAlyBzN1?x?y?z），m、n、x、y和z為原子百分比，0.4≤m≤0.6，0.2≤n≤0.3，0.1≤x≤0.5，0.1≤y≤0.5，0.2≤z≤0.4，x+y+z＜1。B有利于Cr?B?N形成纖維狀晶體結(jié)構(gòu)，提高致密度和韌性；且B與TiAl合金易形成強(qiáng)金屬鍵，使其不易結(jié)晶，在薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中表現(xiàn)為逐層平鋪式生長(zhǎng)模式，降低薄膜因晶體晶向生長(zhǎng)而形成的高內(nèi)應(yīng)力，提高韌性和致密度，使該納米多層復(fù)合涂層兼具高硬度和高韌性。