一種通過聚焦激光束測量氣膜孔的形位參數(shù)的方法及系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010736560.9 申請日 -
公開（公告）號 CN111854604B 公開（公告）日 2022-03-22
申請公布號 CN111854604B 申請公布日 2022-03-22
分類號 G01B11/00（2006.01）I;G01B11/24（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 張曉寧;王建軍;訾進鋒;吳平;劉國強;楊小君;趙華龍 申請（專利權(quán)）人 西安中科微精光子科技股份有限公司
代理機構(gòu) 西安維英格知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李斌棟;姚勇政
地址 710066陜西省西安市高新區(qū)丈八街辦創(chuàng)匯路32號電子一車間301室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實施例公開了一種通過聚焦激光束測量氣膜孔的形位參數(shù)的方法和系統(tǒng)，該方法可以包括：將所述聚焦激光束在所述氣膜孔的孔壁內(nèi)表面上旋切掃描一周；掃描過程中采集所述孔壁內(nèi)表面產(chǎn)生的漫反射激光的表征量；相應(yīng)于所述聚焦激光束的焦點沿著所述孔壁內(nèi)表面移動，根據(jù)所述漫反射激光的表征量獲取所述氣膜孔的形位參數(shù)。