一種光刻設備及光刻方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010269164.X 申請日 -
公開（公告）號 CN113495432A 公開（公告）日 2021-10-12
申請公布號 CN113495432A 申請公布日 2021-10-12
分類號 G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 呂帥;徐順達;王冠楠;朱鵬飛;浦東林 申請（專利權）人 蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司
代理機構 上海波拓知識產權代理有限公司 代理人 周志中
地址 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)新昌路68號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種光刻設備，包括激光輸出裝置、光路選擇裝置、檢測模塊和光刻模塊，所述激光輸出裝置發(fā)射激光至所述光路選擇裝置，所述光路選擇裝置選擇將激光反射至所述光刻模塊或所述檢測模塊。本發(fā)明還公開了一種光刻方法，利用上述光刻設備進行光刻。通過所述光路選擇裝置選擇將激光反射至所述光刻模塊或所述檢測模塊，以使光刻設備能實時檢測曝光能量，保證了光刻效果，提高了光刻效率，提升了產品的良品率。