一種浮雕型波導(dǎo)結(jié)構(gòu)及其制作方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010220340.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113448014A 公開(kāi)（公告）日 2021-09-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN113448014A 申請(qǐng)公布日 2021-09-28
分類(lèi)號(hào) G02B6/13（2006.01）I;G02B6/136（2006.01）I;G02B6/132（2006.01）I;G02B6/124（2006.01）I;G02B27/01（2006.01）I 分類(lèi) 光學(xué);
發(fā)明人 喬文;羅明輝;李瑞彬;楊博文;李玲;成堂東;朱平;陳林森 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 蘇州蘇大維格科技集團(tuán)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州簡(jiǎn)理知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 楊瑞玲
地址 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種浮雕型波導(dǎo)結(jié)構(gòu)及其制作方法，包括：提供基底，該基底作為浮雕型波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)載體；在所述基底上形成圖案形成層，所述圖案形成層的折射率小于所述基底的折射率；在所述圖案形成層上形成有貫穿所述圖案形成層的納米結(jié)構(gòu)圖案；在所述納米結(jié)構(gòu)圖案內(nèi)填充形成光學(xué)結(jié)構(gòu)材質(zhì)層，其中所述光學(xué)結(jié)構(gòu)材質(zhì)層的折射率高于所述圖案形成層，所述光學(xué)結(jié)構(gòu)材質(zhì)層與所述基底層直接接觸；去除所述圖案形成層。本發(fā)明提供的一種浮雕型波導(dǎo)結(jié)構(gòu)及其制作方法確實(shí)解決了現(xiàn)有技術(shù)中高折射率基底刻蝕難度大的問(wèn)題，另辟蹊徑解決了制造難度，推進(jìn)顯示技術(shù)的發(fā)展。