一種晶硅太陽能電池表面鈍化工藝
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202011450716.3 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN112563372A | 公開(公告)日 | 2021-03-26 |
| 申請公布號 | CN112563372A | 申請公布日 | 2021-03-26 |
| 分類號 | H01L31/18(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 任現坤;楊曉君;仲偉佳;葛永見;曹振;郭瑞靜;陳沖 | 申請(專利權)人 | 山東力諾太陽能電力股份有限公司 |
| 代理機構 | 濟南舜源專利事務所有限公司 | 代理人 | 牟京霞 |
| 地址 | 250103山東省濟南市歷城區(qū)經十東路30766號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種晶硅太陽能電池表面鈍化工藝,過程為:設定特氣柜中的氣體比例,控制SiH4與NH3體積比為1.5?2:1,并控制進入工作腔內的氣體壓力在20?25Pa之間;設定工作腔中,襯底托臺的加熱溫度為220℃,調整射頻頻率在200?230KHz之間;將潔凈的基片送至工作腔,置于襯底托臺上加熱;運行工藝,完成對電池表面鈍化。該鈍化工藝中,通過控制氣體比例、氣體壓力,使工作腔內維持一定的離子濃度;通過控制襯底托臺的加熱溫度,可避免基片產生裂痕同時利于鈍化膜在基片上生長;通過控制射頻頻率,使工作腔內的離子能夠均勻的生長在基片表面,提高基片表面鈍化層的均勻性,進而達到抑制基片表面缺陷的優(yōu)點。?? |





