磁體鍍膜裝置及方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201710985242.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN107808768A 公開(kāi)（公告）日 2018-03-16
申請(qǐng)公布號(hào) CN107808768A 申請(qǐng)公布日 2018-03-16
分類號(hào) H01F41/02;C23C14/16 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 吳樹(shù)杰;董義;袁易;張帥;林曉勤;苗聚昌;刁樹(shù)林;伊海波;陳雅;袁文杰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 包頭市天之和磁材設(shè)備制造有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京悅成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 包頭天和磁材技術(shù)有限責(zé)任公司;包頭天和磁材科技股份有限公司;包頭市天之和磁材設(shè)備制造有限公司
地址 014030 內(nèi)蒙古自治區(qū)包頭市稀土高新區(qū)稀土應(yīng)用產(chǎn)業(yè)園稀土大街8-17號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種磁體鍍膜裝置及方法。該鍍膜裝置包括：基片架，其用于承載和輸送待鍍膜磁體；進(jìn)料區(qū)，其用于接納待鍍膜磁體，并保持真空狀態(tài)；鍍膜區(qū)，其用于接納來(lái)自進(jìn)料區(qū)的待鍍膜磁體，并在該待鍍膜磁體的表面真空濺射上至少一層重稀土金屬，從而形成鍍膜磁體；出料區(qū)，其用于接納來(lái)自鍍膜區(qū)的鍍膜磁體，并保持真空狀態(tài)；其中，鍍膜區(qū)包括多個(gè)工藝鍍膜室，且至少一部分的工藝鍍膜室以能夠旋轉(zhuǎn)地方式安裝有孿生的旋轉(zhuǎn)陰極靶。采用本發(fā)明的磁體鍍膜裝置及方法，鍍膜一致性好，靶材本身的使用率較高。