微顆粒表面真空鍍金屬膜工藝及其設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200510014639.6 申請日 -
公開（公告）號 CN1718845A 公開（公告）日 2006-01-11
申請公布號 CN1718845A 申請公布日 2006-01-11
分類號 C23C14/34(2006.01);C23C14/54(2006.01) 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 沈志剛;俞曉正;徐政 申請（專利權(quán)）人 深圳微納超細(xì)材料有限公司
代理機構(gòu) 天津市三利專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 北京航空航天大學(xué);國家納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)化基地;深圳微納超細(xì)材料有限公司
地址 100083北京市海淀區(qū)學(xué)院路37號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及微顆粒表面真空鍍金屬膜工藝及其設(shè)備，其特征是采用樣品架連接設(shè)有超聲波或機械振動發(fā)生器的鍍金屬膜設(shè)備，進行微顆粒表面真空鍍金屬膜步驟如下：首先備好各種微顆粒材料；選用金屬濺射靶材銀、銅、鋁、鈷、鎳之一置于濺射靶架上；把裝入微顆粒的樣品皿置于樣品臺；打開機械泵抽真空至1Pa～10Pa；打開分子泵抽真空至1.0×10－3Pa～8.0×10－3Pa；并向真空室內(nèi)充氬氣至0.1Pa～10Pa；打開超聲波或機械振動發(fā)生器和樣品架擺動裝置，調(diào)節(jié)超聲波振動功率范圍：10w～200w，或機械振動功率范圍：5w～5000w，樣品架擺動頻率范圍：10次/分～80次/分；濺射功率范圍：50w～5000w，濺射鍍膜時間范圍：10分鐘～180分鐘。操作簡便，無廢水廢氣污染，節(jié)能降耗。