一種在空心微珠表面真空鍍二氧化鈦薄膜的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200610015533.2 申請日 -
公開（公告）號 CN101135042A 公開（公告）日 2008-03-05
申請公布號 CN101135042A 申請公布日 2008-03-05
分類號 C23C14/34(2006.01);C23C14/08(2006.01);C23C14/54(2006.01);C23C14/02(2006.01);B08B3/04(2006.01) 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 沈志剛;俞曉正;徐政;楊春元;李勇;裴小科;范洪濤 申請（專利權(quán)）人 深圳微納超細(xì)材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 國嘉律師事務(wù)所 代理人 國家納米技術(shù)與工程研究院;北京航空航天大學(xué);深圳微納超細(xì)材料有限公司
地址 300457天津市天津經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)第四大街80號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種在空心微珠表面真空鍍二氧化鈦薄膜的方法，采用微顆粒脈沖濺射真空鍍膜設(shè)備制備，以空心微珠顆粒材料作基底，以金屬鈦?zhàn)鳛R射靶材，通過向真空室內(nèi)同時(shí)充入氧氣和氬氣并采用脈沖電源在真空室內(nèi)輝光放電，使金屬鈦與氧氣發(fā)生反應(yīng)，在空心微珠表面生成光催化二氧化鈦薄膜。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是：真空鍍二氧化鈦薄膜為單一銳鈦礦相二氧化鈦薄膜，在紫外線作用下可以實(shí)現(xiàn)對有機(jī)物的光催化降解，使其應(yīng)用范圍更加廣泛的應(yīng)用；所鍍二氧化鈦薄膜均勻性好且附著力強(qiáng)；可在不同粒徑的空心微珠表面沉積上不同厚度的二氧化鈦薄膜；空心微珠密度比水小，在水面上有較好的漂浮性，回收容易，不會造成對環(huán)境的二次污染并可重復(fù)利用。