基于光源互強度函數(shù)分解的光學成像快速計算方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710820261.1 申請日 -
公開（公告）號 CN107479335A 公開（公告）日 2017-12-15
申請公布號 CN107479335A 申請公布日 2017-12-15
分類號 G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 貢頂;沈忱;崔紹春;毛智彪 申請（專利權(quán)）人 蘇州珂晶達電子有限公司
代理機構(gòu) 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 湯東鳳
地址 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道1355號國際科技園內(nèi)B501單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種基于光源互強度函數(shù)分解的光學成像快速計算方法，其包括以下步驟：1)獲取成像系統(tǒng)的光源函數(shù)及光瞳函數(shù)將光源函數(shù)投影到頻域上的一組正交基函數(shù)上；3)求解空間域上光源互強度函數(shù)對應(yīng)基函數(shù)的投影系數(shù)αpq,st；4)由投影系數(shù)apq,st建立對稱正定的投影矩陣A＝[αpq,st]，并進行特征向量分解A＝UU*；5)對光源互強度函數(shù)進行分離變量，并建立空間域上的交叉?zhèn)鬟f函數(shù)的核函數(shù)6)計算核函數(shù)與掩膜板圖形的卷積，獲得像平面上的曝光圖案本發(fā)明利用一組空間域和頻域上的傅立葉函數(shù)變換對，并根據(jù)卷積定義來計算復雜的積分變換，從而快速的獲得相應(yīng)的核函數(shù)，使得光強分布計算快速而高效，從而滿足實際的光刻工藝設(shè)計需求。