人工晶狀體晶坯滴涂石蠟裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201821324694.4 申請日 -
公開（公告）號 CN209287624U 公開（公告）日 2019-08-23
申請公布號 CN209287624U 申請公布日 2019-08-23
分類號 B05C5/04（2006.01）I 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 彎家立; 王軍勝; 孫好峰; 張文麗; 劉素香 申請（專利權(quán)）人 河南宇宙人工晶狀體研制有限公司
代理機(jī)構(gòu) 鄭州隆盛專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 河南宇宙人工晶狀體研制有限公司
地址 450001 河南省鄭州市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)國槐街八號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 實(shí)用新型涉及人工晶狀體制作設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種人工晶狀體晶坯滴涂石蠟裝置，包括機(jī)箱、底座、第一工作臺、晶坯通道、第一光電傳感器、推送氣缸、第二工作臺、第二光電傳感器、石蠟滴涂裝置，操作方便、人工勞動(dòng)強(qiáng)度低、滴涂精度高。