一種具有保護結構的光掩模及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111383986.1 申請日 -
公開（公告）號 CN114217503A 公開（公告）日 2022-03-22
申請公布號 CN114217503A 申請公布日 2022-03-22
分類號 G03F1/00（2012.01）I;G03F1/68（2012.01）I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 季明華;任新平;黃早紅 申請（專利權）人 上海傳芯半導體有限公司
代理機構 上海光華專利事務所（普通合伙） 代理人 羅泳文
地址 200120上海市浦東新區(qū)中國（上海）自由貿易試驗區(qū)臨港新片區(qū)環(huán)湖西二路888號C樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種具有保護結構的光掩模及其制備方法，制備方法包括步驟：提供第一透光基板，在第一透光基板表面刻蝕出凹陷狀的圖形凹槽；于第一透光基板的圖形凹槽中的形成圖形掩膜層；提供第二透光基板；鍵合第一透光基板和第二透光基板，圖形凹槽與第二透光基板配合組成密封腔，以密封圖形掩膜層。本發(fā)明可以有效控制光掩模霧化的問題，可以使得圖形掩膜層始終保持潔凈，并使圖形掩膜層始終與外部環(huán)境隔離，從而可以控制霧化問題，且不需要定期清潔，大大節(jié)省了設備成本和工藝成本。