一種適用于濺射鍍膜機(jī)的加熱系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120317645.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215251140U 公開（公告）日 2021-12-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN215251140U 申請(qǐng)公布日 2021-12-21
分類號(hào) C23C14/50（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 卜欽欽;高文晶;趙磊;吳凱 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 光馳科技（上海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海申蒙商標(biāo)專利代理有限公司 代理人 周宇凡
地址 200444上海市寶山區(qū)寶山城市工業(yè)園區(qū)城銀路267號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種適用于濺射鍍膜機(jī)的加熱系統(tǒng)，其特征在于：對(duì)所述可旋轉(zhuǎn)基板架上的基板進(jìn)行一一對(duì)應(yīng)的加熱，即每個(gè)所述基板均具有相獨(dú)立的且設(shè)置在所述可旋轉(zhuǎn)基板架上的加熱源，所述加熱源對(duì)所述基板進(jìn)行加熱，且所述加熱源是通過并聯(lián)的方式進(jìn)行加熱并同時(shí)實(shí)現(xiàn)其加熱溫度的控制。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是：1）加熱效率高，進(jìn)而可以提高設(shè)備的產(chǎn)能，并可進(jìn)一步提高基板溫度控制的準(zhǔn)確性，進(jìn)而可以進(jìn)一步提高成膜的均勻性；2）有效的降低成本，提高系統(tǒng)的穩(wěn)定性；3）提高系統(tǒng)的集成性，并降低成本；4）避免了真空放電現(xiàn)象的發(fā)生；5）提高系統(tǒng)的安全性能，安全性好；6）結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單合理，使用方便，應(yīng)用范圍廣，適于推廣。