一種鐵薄膜的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201010225691.7 申請日 -
公開（公告）號 CN101886243A 公開（公告）日 2010-11-17
申請公布號 CN101886243A 申請公布日 2010-11-17
分類號 C23C14/14(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 孟健;武曉杰;劉孝娟;呂敏峰;鄧孝龍 申請（專利權）人 白山市天安金屬鎂礦業(yè)有限公司
代理機構 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 魏曉波;逯長明
地址 130000 吉林省長春市人民大街5625號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實施例公開了一種鐵薄膜的制備方法，該制備方法以Fe2O3陶瓷靶為濺射靶，利用磁控濺射沉積設備，用Ar與H2的混合氣體為濺射及還原氣體，通過選擇合適的H2與Ar比例、沉積溫度及生長室壓力，制備了鐵薄膜。由于Fe2O3靶材不是鐵磁性材料，因此濺射源可以采用普通的永磁型濺射源，無需采用特殊的濺射源；同時，F(xiàn)e2O3比單質(zhì)鐵更容易獲得高純度；此外，F(xiàn)e2O3靶材的生產(chǎn)成本較低，有利于工業(yè)化生產(chǎn)。實驗結果表明，本發(fā)明制備的鐵薄膜結晶質(zhì)量高，重復性好。