一種用于外延設(shè)備的氣體管路及外延設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122971524.3 申請日 -
公開（公告）號 CN216972741U 公開（公告）日 2022-07-15
申請公布號 CN216972741U 申請公布日 2022-07-15
分類號 C30B25/14（2006.01）I;C30B25/08（2006.01）I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 尹寧;燕春;楊進 申請（專利權(quán)）人 江蘇天芯微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
代理機構(gòu) 上海元好知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 214028江蘇省無錫市新吳區(qū)行創(chuàng)四路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及用于外延設(shè)備的氣體管路及外延設(shè)備，所述用于外延設(shè)備的氣體管路包括：上游管路、下游管路、可拆卸緊固裝置、限流器和防沉積環(huán)，所述防沉積環(huán)設(shè)置在限流器與上游管路的接頭之間和/或限流器與下游管路的接頭之間，所述防沉積環(huán)包括面對限流器的第一表面和與之相對的第二表面，所述第二表面具有從所述接頭的內(nèi)壁向限流器延申的坡面。所述坡面可以很好地防止工藝氣體在氣體管路的直角角落沉積，從而抑制了沉積物形成顆粒物進入反應(yīng)腔，避免了工藝的失敗。