一種氧化鋅鎵磁控濺射靶材的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110799278.X 申請日 -
公開（公告）號 CN113637941A 公開（公告）日 2021-11-12
申請公布號 CN113637941A 申請公布日 2021-11-12
分類號 C23C14/08（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉藝;張訓龍;張錦 申請（專利權(quán)）人 安徽錦華氧化鋅有限公司
代理機構(gòu) 合肥廣源知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 徐國法
地址 238100安徽省馬鞍山市含山縣仙蹤鎮(zhèn)江淮小夏4-7幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于屬于氧化鋅材料技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種氧化鋅鎵磁控濺射靶材的制備方法，本發(fā)明本身具有粘結(jié)定型作用，而羥基氧化鎵本身又可以在高溫燒結(jié)下形成氧化鎵，既實現(xiàn)了鎵摻雜的目的，又無需使用聚乙烯醇等有機膠黏劑無需排膠，一舉多得。以往采用有機粘結(jié)劑也好，氧化鋅粉末物理直接混合也好，實際上并不能充分混合均勻，會發(fā)生局部富集，且因為有機粘結(jié)成分分解形成較大氣孔洞的存在以及氧化物的不均勻分布，以往的機械混粉工藝嚴重影響了制備的氧化鋅等濺射靶材的質(zhì)量。本發(fā)明公開的方法規(guī)避了傳統(tǒng)方法帶來的缺陷，適用于粉末冶金生產(chǎn)的用于磁控濺射沉積節(jié)能Low?E玻璃的功能介質(zhì)層以及薄膜太陽能電池透明電極層等膜層的氧化鋅鎵磁控濺射靶材。