基于深度學(xué)習(xí)的去除馬賽克的方法、裝置及電子設(shè)備
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811193895.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN109410123A | 公開(公告)日 | 2019-03-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN109410123A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-03-01 |
| 分類號(hào) | G06T3/40 | 分類 | 計(jì)算;推算;計(jì)數(shù); |
| 發(fā)明人 | 陳苗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳市能信安科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京圣達(dá)博通知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 深圳市能信安科技股份有限公司 |
| 地址 | 518109 廣東省深圳市龍華新區(qū)東環(huán)一路天匯大廈B座801 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本申請(qǐng)公開了一種基于深度學(xué)習(xí)的去除馬賽克的方法、裝置及電子設(shè)備,該方法包括:獲取包括待修復(fù)馬賽克區(qū)域的待修復(fù)圖像;將待修復(fù)圖像輸入至圖像修復(fù)模型中,通過圖像修復(fù)模型生成與待修復(fù)圖像對(duì)應(yīng)的被掩碼masked圖像;與待修復(fù)圖像對(duì)應(yīng)的masked圖像滿足:與待修復(fù)圖像大小相同,圖像中的掩碼mask區(qū)域重疊或覆蓋待修復(fù)馬賽克區(qū)域,圖像中的mask區(qū)域的像素值為設(shè)定值,圖像中除mask區(qū)域之外的區(qū)域的像素值為待修復(fù)圖像中相應(yīng)區(qū)域的像素值;通過圖像修復(fù)模型對(duì)masked圖像進(jìn)行修復(fù),得到修復(fù)后的圖像。本申請(qǐng)的方案,對(duì)待修復(fù)圖像的修復(fù)可以不依賴于待修復(fù)圖像對(duì)應(yīng)的原圖中馬賽克區(qū)域的信息,且修復(fù)效果好。 |





