鍍層、通信設備及鍍層的制備工藝
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201210487213.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN103834946A | 公開(公告)日 | 2014-06-04 |
| 申請公布號 | CN103834946A | 申請公布日 | 2014-06-04 |
| 分類號 | C23C30/00(2006.01)I;C23C28/02(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 匡玲藝;董有光;何大鵬;張強;薛瑤香 | 申請(專利權)人 | 深圳市深投環(huán)保儲運服務有限公司 |
| 代理機構 | 北京中博世達專利商標代理有限公司 | 代理人 | 申健 |
| 地址 | 518129 廣東省深圳市龍崗區(qū)坂田華為總部辦公樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明的實施例提供了一種鍍層、通信設備及鍍層的制備工藝,涉及通信設備領域,能夠承受環(huán)境的高溫、高濕和高腐蝕。所述鍍層包括:鎳層和錫合金層;錫合金層包括質量份數(shù)為20%~70%的Cu、20%~70%的Sn和10%~60%的Ni,以及0~20%的其他元素。本發(fā)明可用于通信設備的鍍層工藝中。 |





