一種熔片及含有該熔片的熔斷器
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201821797920.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN208861923U | 公開(公告)日 | 2019-05-14 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN208861923U | 申請(qǐng)公布日 | 2019-05-14 |
| 分類號(hào) | H01H85/08(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 歐陽喜華; 周景榮; 黃勇釗; 晏超 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 西安艾德樂電器有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 | 代理人 | 東莞市貝特電子科技股份有限公司; 西安艾德樂電器有限公司 |
| 地址 | 523000 廣東省東莞市松山湖高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)新竹路4號(hào)新竹苑16座辦公601 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型屬于熔斷器技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種熔片,包括若干第一主體部以及連接于若干所述第一主體部之間的第二主體部,所述第一主體部的上邊緣和下邊緣對(duì)稱地設(shè)置有凹陷位,所述第二主體部設(shè)置有通孔,所述通孔的最高點(diǎn)與所述第二主體部的上邊緣之間的垂直距離大于1mm,所述通孔的最低點(diǎn)與所述第二主體部的下邊緣之間的垂直距離大于1mm。另外,本實(shí)用新型還提供一種熔斷器,包括熔斷管、管帽和熔片,所述管帽設(shè)置于所述熔斷管的兩端,所述熔片設(shè)置于所述熔斷管內(nèi),所述熔片為本實(shí)用新型所述的熔片。相比于現(xiàn)有技術(shù),本實(shí)用新型提高了產(chǎn)品的堅(jiān)固性和安全系數(shù),降低不良率,確保在電路中能安全進(jìn)行過流保護(hù)。 |





