缺陷分類器和缺陷分類方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110607390.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113298166A | 公開（公告）日 | 2021-08-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113298166A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-24 |
| 分類號(hào) | G06K9/62;G06K9/46 | 分類 | 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù); |
| 發(fā)明人 | 劉成成;王振;韓春營(yíng);俞宗強(qiáng);喬靜;張旭陽(yáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中科晶源微電子技術(shù)（北京）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京市鼎立東審知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 陳佳妹;朱慧娟 |
| 地址 | 102600 北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)經(jīng)海四路156號(hào)院12號(hào)樓5層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)公開了一種缺陷分類器，該缺陷分類器包括第一層分類器和第二層分類器，第一層分類器，被配置為將缺陷圖像進(jìn)行第一次分類得到淺分類層缺陷類別，第二層分類器，被配置為將淺分類層缺陷類別進(jìn)行第二次分類得到深分類層缺陷類別。第一層分類器為model?based分類器，第二層分類器為rule?based分類器和model?based分類器中的至少一種。在復(fù)雜分類場(chǎng)景中，利用本申請(qǐng)的多層缺陷分類器實(shí)現(xiàn)各種類型缺陷的準(zhǔn)確分類，利于缺陷原因的準(zhǔn)確分析排查，從而改善良率，提高生產(chǎn)。 |
