一種預對準機的透明晶圓邊緣提取方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202010903002.7 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN111952230B | 公開(公告)日 | 2021-03-16 |
| 申請公布號 | CN111952230B | 申請公布日 | 2021-03-16 |
| 分類號 | H01L21/68(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 戴金方 | 申請(專利權)人 | 無錫卓??萍脊煞萦邢薰?/a> |
| 代理機構 | 無錫華源專利商標事務所(普通合伙) | 代理人 | 聶啟新 |
| 地址 | 214000江蘇省無錫市天山路6-2407 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種預對準機的透明晶圓邊緣提取方法,涉及半導體技術領域,該方法包括:不放置晶圓時采集線陣型CCD傳感器的第一受光數(shù)據(jù)作為光源基準波形;放置待測透明晶圓并控制移動平臺移動至晶圓邊緣位于線陣型CCD傳感器的檢測范圍內;旋轉待測透明晶圓并采集線陣型CCD傳感器的第二受光數(shù)據(jù),從中提取出邊緣數(shù)據(jù);將邊緣數(shù)據(jù)和光源基準波形進行差分處理,通過處理獲取線陣型CCD傳感器的遮光位置;對該遮光位置進行邊緣補償修正得到補償后傳感器的遮光位置;通過數(shù)模信號轉換后輸出給預對準機得到待測透明晶圓的邊緣位置。邊緣補償修正提高了晶圓邊緣提取的精度,該提取方法使現(xiàn)有的預對準機也能支持透明晶圓的邊緣提取。?? |





