蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120052787.1 申請日 -
公開（公告）號 CN214881794U 公開（公告）日 2021-11-26
申請公布號 CN214881794U 申請公布日 2021-11-26
分類號 C23C14/24（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林文晶;軒景泉;趙軍;崔建勇 申請（專利權(quán)）人 上海升翕光電科技有限公司
代理機構(gòu) 北京匯思誠業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 周放
地址 200540上海市金山區(qū)夏寧路666弄62號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及蒸鍍設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置，前者包括坩堝本體和加熱裝置；坩堝本體具有用于盛裝蒸鍍材料的容腔，且容腔的頂部開設(shè)有開口；加熱裝置設(shè)置于坩堝本體外部；其中，開口所在的平面與水平方向傾斜設(shè)置。該蒸鍍坩堝將容腔中的蒸鍍材料加熱到熔化揮發(fā)時，蒸鍍材料便可從開口逸散出去，而且由于開口朝向基材的中部傾斜設(shè)置，這樣蒸鍍材料的蒸鍍角也會相應(yīng)的朝向基材的中部傾斜，從而使蒸鍍材料能夠更充分地蒸鍍到基材的邊角部、能夠減少蒸鍍材料浪費、降低蒸鍍成本。