一種去除低氘洗靶水中內(nèi)毒素及雜質(zhì)離子的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510615563.6 申請日 -
公開（公告）號 CN105130083A 公開（公告）日 2015-12-09
申請公布號 CN105130083A 申請公布日 2015-12-09
分類號 C02F9/10(2006.01)I 分類 水、廢水、污水或污泥的處理;
發(fā)明人 谷宏森;周建躍;肖斌;秦川江;劉嚴(yán);李猷;林軼凡;池毅;蔣琮琪;王杰 申請（專利權(quán)）人 上海聯(lián)泓同位素科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上?？剖⒅R產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 上海化工研究院;上海聯(lián)泓同位素科技有限公司;上?；ぱ芯吭河邢薰?/td>
地址 200062 上海市普陀區(qū)云嶺東路345號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種去除低氘洗靶水中內(nèi)毒素及雜質(zhì)離子的方法。先利用兩級蒸餾除去低氘洗靶水粗原料中的部分內(nèi)毒素及雜質(zhì)離子，再經(jīng)過超濾膜過濾去除低氘洗靶水中的剩余的內(nèi)毒素。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明在保證低氘洗靶水中氘元素(D)豐度不升高、最終產(chǎn)品不引入其他雜質(zhì)離子的前提下，先利用兩級蒸餾除去低氘洗靶水中的部分內(nèi)毒素及雜質(zhì)離子，再經(jīng)過超濾膜過濾，去除低氘洗靶水中的剩余的絕大部分內(nèi)毒素，實(shí)現(xiàn)低氘洗靶水中內(nèi)毒素含量及雜質(zhì)離子含量的達(dá)標(biāo)。本發(fā)明工藝簡便，保證了產(chǎn)品質(zhì)量，并對低氘洗靶水損耗較少。