一種多元合金靶材及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111242398.6 申請日 -
公開（公告）號 CN114000113A 公開（公告）日 2022-02-01
申請公布號 CN114000113A 申請公布日 2022-02-01
分類號 C23C14/34（2006.01）I;C22C30/00（2006.01）I;B22F3/15（2006.01）I;B22F3/10（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張鳳戈;張學華;魏鐵峰;岳萬祥;張欠男;高眾 申請（專利權）人 北京安泰六九新材料科技有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 100089北京市海淀區(qū)學院南路76號17幢一層101室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及粉末冶金材料的技術領域，具體公開了一種多元合金靶材及其制備方法。一種多元合金靶材，由以下原子百分比的元素組成，鎳20?35%、釩20?25%、鉬20?25%、鎢20?35%。其制備方法：首先將鉬粉與鎳粉混料制備成MoNi合金粉末，再將MoNi合金粉末與其他粉末進行混料，最后進行HIP燒結和機加工。本申請制備的靶材具有致密度高，可達99%以上、合金化程度高，無氣孔和偏析，組織均勻等優(yōu)點。另外，本申請的制備方法能夠使熔點不同的元素進行HIP燒結，并且能保證熔點不同的元素在靶材中所占比例達到要求。