一種銅箔表面處理機電鍍槽
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202022935818.6 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN214032732U | 公開(公告)日 | 2021-08-24 |
| 申請公布號 | CN214032732U | 申請公布日 | 2021-08-24 |
| 分類號 | C25D17/02(2006.01)I;C25D17/10(2006.01)I;C25D17/00(2006.01)I;C25D7/06(2006.01)I | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設備〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 李海濤;余樂勝 | 申請(專利權)人 | 洪田科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201415上海市奉賢區(qū)南橋鎮(zhèn)華嚴村1048號第三幢第二層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型涉及一種銅箔表面處理機電鍍槽,包括槽體、設置在槽體中的V型槽、設置在V型槽底部的液下輥以及設置在V型槽中的兩個對稱分布陽極板,陽極板與V型槽傾斜的側(cè)壁對稱,液下輥設置在陽極板的下方,對稱的陽極板之間設有隔板,隔板設置在液下輥上方,通過改變陽極板的位置,調(diào)整了銅箔的傳送位置,使銅箔的毛面朝向陽極板,并且該毛面也與液下輥直接接觸,使其位于電鍍槽上方的導電輥無法對銅箔的表面進行拉毛,提高電鍍層表面的光滑度,通將進液口設置在液下輥與陽極板之間,并且將出液孔設置在頂部,通過進液孔補充的高濃度電鍍液,將低濃度的電鍍液從出液孔流出,保證電鍍的效果。 |





