一種顯微成像設(shè)備以及納米尺度三維形貌測(cè)量系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111134261.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113568153B | 公開（公告）日 | 2021-12-21 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113568153B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-12-21 |
| 分類號(hào) | G02B21/02（2006.01）I;G02B21/04（2006.01）I;G02B21/36（2006.01）I;G01B11/24（2006.01）I | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 吳征宇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 板石智能科技（武漢）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 武漢智嘉聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 黃君軍 |
| 地址 | 430000湖北省武漢市東湖開發(fā)區(qū)關(guān)山一路1號(hào)華中曙光軟件園恒隆大樓F幢207號(hào)（自貿(mào)區(qū)武漢片區(qū)）（一址多照） | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)涉及一種顯微成像設(shè)備以及納米尺度三維形貌測(cè)量系統(tǒng)，顯微成像設(shè)備包括顯微鏡、4F系統(tǒng)以及相機(jī)；所述4F系統(tǒng)包括兩個(gè)透鏡組以及電控變焦透鏡；兩個(gè)所述透鏡組分別為第一透鏡組和第二透鏡組；兩個(gè)所述透鏡組均為反遠(yuǎn)距結(jié)構(gòu)的傅里葉變換物鏡；所述顯微鏡的鏡片、第一透鏡組、電控變焦透鏡、第二透鏡組以及相機(jī)的鏡片依次設(shè)置于同一光軸上；所述第一透鏡組以及所述第二透鏡組對(duì)稱設(shè)置于所述電控變焦透鏡兩側(cè)；所述顯微鏡的像平面位于所述第一透鏡組的前焦面，所述電控變焦透鏡位于所述第一透鏡組的后焦面以及所述第二透鏡組的前焦面，所述相機(jī)位于所述第二透鏡組的后焦面。本申請(qǐng)具有成像像差小、效率高的技術(shù)效果。 |
