減少掩模操作次數(shù)的RRAM工藝整合方案及單元結(jié)構(gòu)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201780080601.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN110140172A | 公開(公告)日 | 2019-08-16 |
| 申請公布號 | CN110140172A | 申請公布日 | 2019-08-16 |
| 分類號 | G11C11/56;G11C7/12;G11C13/00;H01L27/24;H01L27/02;H01L45/00 | 分類 | 信息存儲; |
| 發(fā)明人 | 呂志超;布倫特·史蒂文·豪克內(nèi)斯 | 申請(專利權(quán))人 | 合肥睿科微電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 合肥??莆㈦娮佑邢薰?/td> |
| 地址 | 230088 安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園二期J1棟A座14樓A-08室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 公開一種阻變隨機(jī)存取存儲器(RRAM)。該RRAM包括由鎢構(gòu)成的底電極以及設(shè)于該底電極上方的由氧化鉿構(gòu)成的轉(zhuǎn)變層,其中,該轉(zhuǎn)變層包括可轉(zhuǎn)變細(xì)絲。所述RRAM還包括設(shè)于所述轉(zhuǎn)變層上方的電阻層以及設(shè)于該電阻層上方的位線,其中,該電阻層橫向延伸,從而沿所述位線連接兩個或更多個存儲單元。 |





