垂直腔面發(fā)射激光器及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110503049.9 申請日 -
公開（公告）號 CN112993752B 公開（公告）日 2021-09-17
申請公布號 CN112993752B 申請公布日 2021-09-17
分類號 H01S5/183 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 梁棟;張成;劉嵩 申請（專利權）人 常州縱慧芯光半導體科技有限公司
代理機構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 孟金喆
地址 213000 江蘇省常州市武進國家高新技術產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)鳳翔路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種垂直腔面發(fā)射激光器及其制備方法。垂直腔面發(fā)射激光器包括：襯底；第一反射層，覆蓋襯底；有源層，位于第一反射層遠離襯底的一側(cè)；第二反射層，位于有源層遠離第一反射層的一側(cè)；第一氧化層，位于第二反射層內(nèi)沿第一方向相對的兩側(cè)；電極金屬層，位于第二反射層遠離有源層的一側(cè)，且與第一氧化層對應；第二反射層內(nèi)還設置有第一離子注入層；沿第一方向和第二方向，第一離子注入層均延伸至第二反射層的邊界；沿第三方向，第一離子注入層與第二反射層的邊界不接觸；其中，第二方向為垂直于襯底的方向，第一方向與第三方向相交且均與第二方向垂直。本發(fā)明實施例能夠提高垂直腔面發(fā)射激光器的調(diào)制頻率。