一種垂直腔面發(fā)射激光器及其制造方法與應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010143255.9 申請日 -
公開（公告）號 CN111211482B 公開（公告）日 2021-09-14
申請公布號 CN111211482B 申請公布日 2021-09-14
分類號 H01S5/042;H01S5/183 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張成;劉嵩;梁棟;翁瑋呈;丁維遵;趙勵;張鵬飛;毛明明 申請（專利權(quán)）人 常州縱慧芯光半導(dǎo)體科技有限公司
代理機構(gòu) 上海光華專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 王華英
地址 213000 江蘇省常州市武進國家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)鳳翔路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提出一種垂直腔面發(fā)射激光器及其制造方法與應(yīng)用，包括，襯底；第一反射層，形成在所述襯底上；至少兩個發(fā)光單元，形成在所述第一反射層上，每一所述發(fā)光單元包括至少兩個發(fā)光子單元；第一溝槽，形成在所述至少兩個發(fā)光單元之間，所述第一溝槽暴露出所述襯底；絕緣層，形成在所述第一溝槽內(nèi)；第一電極，形成在所述至少兩個發(fā)光單元上，連接所述至少兩個發(fā)光單元，且每一所述發(fā)光單元內(nèi)的發(fā)光子單元通過所述第一電極連接，形成公共陽極；至少兩個第二電極，與所述第一反射層接觸；其中，所述第一電極覆蓋所述發(fā)光子單元，所述發(fā)光子單元發(fā)射的光線通過所述襯底出射。本發(fā)明提出的垂直腔面發(fā)射激光器應(yīng)用頻率快。