一種基于機(jī)器學(xué)習(xí)確定光刻系統(tǒng)焦面位置的方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910993362.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN110727178A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-06-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN110727178A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-22 |
| 分類號(hào) | G03F7/20 | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 董立松;韋亞一;張利斌;粟雅娟 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 南京誠(chéng)芯集成電路技術(shù)研究院有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京中盟科創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 孫麗君 |
| 地址 | 210000 江蘇省南京市浦口區(qū)江浦街道浦濱路320號(hào)科創(chuàng)一號(hào)大廈B座21樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明的一種基于機(jī)器學(xué)習(xí)確定光刻系統(tǒng)焦面位置的方法，包括以下步驟：S1：選取焦面位置測(cè)量標(biāo)記，于標(biāo)定的光刻系統(tǒng)中，在已知的不同焦面位置曝光，記錄位置，利用光刻空間像傳感器采集并記錄光刻空間像的二維分布；S2：將有光刻空間像有效結(jié)果分為訓(xùn)練集和測(cè)試集；S3：利用機(jī)器學(xué)習(xí)算法和訓(xùn)練集，建立焦面位置檢測(cè)模型；S4：用測(cè)試集中的結(jié)果測(cè)試檢測(cè)模型，測(cè)試通過(guò)進(jìn)入下一步，測(cè)試失敗返回S2；S5：測(cè)量待測(cè)光刻系統(tǒng)焦面位置變化，向控制系統(tǒng)反饋。該方法消除了測(cè)量標(biāo)記制造誤差以及三維衍射效應(yīng)對(duì)檢測(cè)方法內(nèi)部數(shù)學(xué)模型的不利影響，同時(shí)測(cè)量信號(hào)從圖形位置偏移這種一維信息升級(jí)為圖形分布的二維信息，提升了焦面位置測(cè)量技術(shù)精度和應(yīng)用范圍。 |
