一種加熱-純氫還原冷卻系統(tǒng)和方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111424537.7 申請日 -
公開（公告）號 CN114107591A 公開（公告）日 2022-03-01
申請公布號 CN114107591A 申請公布日 2022-03-01
分類號 C21B13/02（2006.01）I 分類 鐵的冶金;
發(fā)明人 張俊;周和敏;郝曉東;徐洪軍;王鋒;沈朋飛;何鵬;萬新宇 申請（專利權(quán)）人 鋼研晟華科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京天達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 張同玲
地址 100081北京市海淀區(qū)學(xué)院南路76號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種加熱?純氫還原冷卻系統(tǒng)和方法，屬于冶金過程中的豎爐還原技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有技術(shù)中氫氣利用率低的問題。該加熱?純氫還原冷卻系統(tǒng)包括自上而下依次連通設(shè)置的加熱段、等壓段和還原冷卻段；所述加熱段設(shè)置有氧化球團(tuán)入口、熱煙氣入口和煙氣出口，來自所述氧化球團(tuán)入口的氧化球團(tuán)與來自所述熱煙氣入口的熱煙氣在所述加熱段中進(jìn)行接觸，接觸后的煙氣從所述煙氣出口排出，接觸后的氧化球團(tuán)進(jìn)入所述等壓段；所述還原冷卻段設(shè)置有氫氣入口和氣體出口，來自所述等壓段中的氧化球團(tuán)與來自所述氫氣入口的氫氣在所述還原冷卻段中進(jìn)行還原和冷卻，所述還原和冷卻過程產(chǎn)生的氣體從所述氣體出口排出。本發(fā)明提高氫氣利用率。