一種球團(tuán)氧化焙燒-純氫還原冷卻系統(tǒng)和方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111422806.6 申請日 -
公開（公告）號 CN114107590A 公開（公告）日 2022-03-01
申請公布號 CN114107590A 申請公布日 2022-03-01
分類號 C21B13/02（2006.01）I;C22B1/02（2006.01）I 分類 鐵的冶金;
發(fā)明人 張俊;周和敏;郝曉東;楊光浩;沈朋飛;何鵬;徐洪軍;王鋒 申請（專利權(quán)）人 鋼研晟華科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京天達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 張同玲
地址 100081北京市海淀區(qū)學(xué)院南路76號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及球團(tuán)氧化焙燒?純氫還原冷卻系統(tǒng)和方法，屬于豎爐還原領(lǐng)域，解決現(xiàn)有技術(shù)氫氣利用率低問題。包括自上而下依次連通設(shè)置的加熱焙燒段、調(diào)溫段、等壓段和還原冷卻段；加熱焙燒段設(shè)置生球團(tuán)入口、熱煙氣入口和煙氣出口，調(diào)溫段設(shè)置過熱蒸汽入口，過熱蒸汽入口的過熱蒸汽通過調(diào)溫段進(jìn)入加熱焙燒段，生球團(tuán)入口的生球團(tuán)與熱煙氣入口的熱煙氣和調(diào)溫段過熱蒸汽的混合物接觸，接觸后的煙氣從煙氣出口排出，氧化球團(tuán)進(jìn)入調(diào)溫段，與過熱蒸汽入口的過熱蒸汽接觸調(diào)溫，調(diào)溫后的氧化球團(tuán)進(jìn)入等壓段等壓過渡后進(jìn)入還原冷卻段；還原冷卻段設(shè)置氫氣入口和氣體出口，氧化球團(tuán)與氫氣在還原冷卻段還原冷卻，產(chǎn)生的氣體從氣體出口排出。氫氣利用率提高。