一種PECVD裝置真空腔內(nèi)用汽體分散裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920096195.2 申請日 -
公開（公告）號 CN209873098U 公開（公告）日 2019-12-31
申請公布號 CN209873098U 申請公布日 2019-12-31
分類號 C23C16/50（2006.01）; C23C16/455（2006.01） 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 楊福年; 鄭錫文 申請（專利權）人 東莞市和域戰(zhàn)士納米科技有限公司
代理機構 深圳市智圈知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 東莞市和域戰(zhàn)士納米科技有限公司
地址 523000 廣東省東莞市塘廈鎮(zhèn)宏業(yè)北路99A16號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種PECVD裝置真空腔內(nèi)用汽體分散裝置，包括與PECVD設備連接的通氣固定底座，通氣固定底座的中心軸向上延伸一段并向外展開形成有傘型錐狀支撐體，傘型錐狀支撐體上端連接有分散座與多個分散片，多個分散片均勻分散連接在分散座的外表面，通氣固定底座上在中心軸外周圍設置有多個通氣孔，分散座內(nèi)為中空的并通過連接片連接設置在分散座中心的中心通孔座，多個分散片的底部傾斜角度設置為分散片與分散座的中心軸線方向呈5?35度。本實用新型通過傘型錐狀支撐體和多個分散片的設置，有益氣體快速有效分散進入真空腔蒸汽，確保工件表面納米防水膜均勻分布，該分散裝置可以長期耐180℃高溫環(huán)境工作，結構設計緊湊合理，方便拆裝與維護。