基于單一硅材料的光變防偽薄膜

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201510427099.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN105158835B 公開(kāi)（公告）日 2017-05-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN105158835B 申請(qǐng)公布日 2017-05-03
分類(lèi)號(hào) G02B5/28(2006.01)I 分類(lèi) 光學(xué);
發(fā)明人 卜軼坤;肖麗翔;鄧子豪;馮都鎮(zhèn);方凡;傅宇翔;陳楠 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 廈門(mén)閃蝶科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廈門(mén)南強(qiáng)之路專(zhuān)利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 馬應(yīng)森
地址 361000 福建省廈門(mén)市火炬高新區(qū)（翔安）產(chǎn)業(yè)區(qū)洪垵路668號(hào)之5單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 基于單一硅材料的光變防偽薄膜，涉及光學(xué)防偽。所述基于單一硅材料的光變防偽薄膜為全介質(zhì)高反射膜、硅與介質(zhì)間隔層組成的反射膜、硅與對(duì)稱(chēng)F?P介質(zhì)組合膜系組成的反射膜；全介質(zhì)高反射膜的膜系結(jié)構(gòu)表示為A/(HL)s?H/G。硅與介質(zhì)間隔層組成的反射膜的膜系結(jié)構(gòu)分別為A/(4M2.6L)x100M’/G和A/(4M1.85H)y?100M’/G。硅與對(duì)稱(chēng)F?P介質(zhì)組合膜系組成的反射膜的膜系結(jié)構(gòu)A/4M0.88L(HL)p(LH)p?0.29L100M’/G。只采用硅作為鍍膜材料，制備更加環(huán)保，成本更低，且原材料來(lái)源廣。