特征尺寸的偏移誤差計算方法及裝置、存儲介質(zhì)、終端
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202111643956.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114440775A | 公開(公告)日 | 2022-05-06 |
| 申請公布號 | CN114440775A | 申請公布日 | 2022-05-06 |
| 分類號 | G01B11/03(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
| 發(fā)明人 | 不公告發(fā)明人 | 申請(專利權(quán))人 | 全芯智造技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張英英;駱蘇華 |
| 地址 | 230088安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)新大道2800號創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園二期J2C棟13樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 一種特征尺寸的偏移誤差計算方法及裝置、存儲介質(zhì)、方法包括:獲取待測量版圖中的待測量位置點(diǎn),并基于待測量位置點(diǎn)的位置確定多個起始位置點(diǎn);計算每一個起始位置點(diǎn)的特征尺寸,并基于特征尺寸的值確定第一起始點(diǎn)和第二起始點(diǎn);以第一起始點(diǎn)和第一迭代準(zhǔn)則進(jìn)行迭代,獲得第一目標(biāo)位置點(diǎn);以第二起始點(diǎn)和第二迭代準(zhǔn)則進(jìn)行迭代,獲得第二目標(biāo)位置點(diǎn);基于第一目標(biāo)位置點(diǎn)的特征尺寸和第二目標(biāo)位置點(diǎn)的特征尺寸計算待測量版圖的偏移誤差。通過本發(fā)明技術(shù)方案能夠提升偏移誤差計算的效率。 |





