一種磁介質混凝沉淀用勻質配水系統(tǒng)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201820843084.9 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN208532468U | 公開(公告)日 | 2019-02-22 |
| 申請公布號 | CN208532468U | 申請公布日 | 2019-02-22 |
| 分類號 | C02F9/04 | 分類 | 水、廢水、污水或污泥的處理; |
| 發(fā)明人 | 楊志宏;賈伯林;陸亞軍;朱家偉;劉躍輝;王偉;施東海;顧宇盟;邢巖 | 申請(專利權)人 | 太平洋水處理工程有限公司 |
| 代理機構 | 北京一格知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 太平洋水處理工程有限公司 |
| 地址 | 226000 江蘇省南通市工農(nóng)路29號天虹大廈4樓B座 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型涉及一種磁介質混凝沉淀用勻質配水系統(tǒng),包括一反應組件,所述反應組件包括一反應池,在反應池內安裝有攪拌漿,所述反應池的側端具有一配水口;一沉淀組件,所述沉淀組件包括一設置在反應池側端的沉淀池,在沉淀池內安裝有一刮泥機;一配水組件,所述配水組件包括一設置在反應組件與沉淀組件之間的配水渠,在配水渠內安裝有勻質配水器,該勻質配水器位于配水口的出水口處,所述勻質配水器由數(shù)列配水管道組共同組成,每列配水管道組由若干并列分布的配水管道共同構成,且兩列配水管道組中的配水管道錯開分布。本實用新型的優(yōu)點在于:布水均勻,提高了磁介質沉淀池底部沉淀絮體的分布均勻度,降低了刮泥機局部運行負荷過高的風險。 |





