激光解吸電離質譜裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201621386373.8 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN206340512U | 公開(公告)日 | 2017-07-18 |
| 申請公布號 | CN206340512U | 申請公布日 | 2017-07-18 |
| 分類號 | H01J49/40;H01J49/10 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 賈善余;楊灝 | 申請(專利權)人 | 上海華質生物技術有限公司 |
| 代理機構 | 杭州知通專利代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 浙江和譜生物科技有限公司;上海華質生物技術有限公司 |
| 地址 | 310000 浙江省杭州市濱江區(qū)長河街道濱安路688號5幢15層1512室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型提供激光解吸電離質譜裝置,所述裝置包括MALDI離子源真空腔,線性離子阱真空腔和飛行時間分析器真空腔;其中MALDI離子源真空腔內(nèi)設有MALDI離子源靶板;MALDI離子源靶板的靶板運動系統(tǒng)位于真空腔之外,處于常壓環(huán)境;MALDI離子源靶板和靶板運動系統(tǒng)之間設有靶板運動系統(tǒng)真空過渡機構;靶板運動系統(tǒng)真空過渡機構將靶板運動系統(tǒng)的動能傳遞至MALDI離子源真空腔內(nèi),實現(xiàn)MALDI離子源靶板的運動。激光解吸電離質譜裝置創(chuàng)造性設計了常壓動力+真空內(nèi)靶板運動結構設計,有利于成本控制和維護保養(yǎng)。將靶板的運動系統(tǒng)設置在常壓環(huán)境中,既可以選用常壓電機,而無需使用真空電機,從而降低成本,并有利于日常維護方便。 |





