晶片清洗裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202023289170.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN214043611U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-08-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN214043611U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-24 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01L21/67（2006.01）I;H01L21/687（2006.01）I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 郭炳熙;周鐵軍;陳勇;喻勝舉;張建鋒;米艷嬌 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 廣東先導(dǎo)先進(jìn)材料股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京五洲洋和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 張向琨 |
| 地址 | 511517廣東省清遠(yuǎn)市高新區(qū)百嘉工業(yè)園27-9號(hào)B區(qū) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公開(kāi)提供一種晶片清洗裝置，晶片清洗裝置包括：清洗盤(pán)，其上表面設(shè)置有限位柱，用于固定晶片；噴淋裝置，分別設(shè)置于清洗盤(pán)的上方和下方；清洗盤(pán)為圓盤(pán)結(jié)構(gòu)，清洗盤(pán)包括上表面和上表面，上表面外圓的直徑與下表面外圓的直徑相等，上表面內(nèi)圓的直徑小于下表面內(nèi)圓的直徑。清洗盤(pán)上表面內(nèi)圓的直徑小于下表面內(nèi)圓的直徑，使得清洗盤(pán)的內(nèi)側(cè)面為有角度的斜面，在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，由于離心力的作用下便于內(nèi)側(cè)面積水的的甩出，能夠及時(shí)排除殘留的液體，避免清洗過(guò)程中對(duì)晶片的二次污染。 |
